1）主要用于单、多晶硅太阳能电池片生产,扩散前的绒面腐蚀和清洗。 2）工艺流程： 上料→HF+HNO3腐蚀→QDR+氮气鼓泡+喷淋→KOH腐蚀→QDR+氮气鼓泡+喷淋→HCl腐蚀→QDR+氮气鼓泡+喷淋→下料→离心机甩干(离线) 3）设备采用龙门式机械手方式移动，其工艺时间可以自行调节，酸碱槽具有自动补液装置，可实现无间断生产。能显示温度曲线、浓度变化曲线，及各个工位的工作状态。具有设备报警说明，报警历史查询功能。对清洗用纯水有电阻率监测装置，能存储10个以上工艺方案； 4）标准工艺下产量：125mm×125mm、156mm×156mm、 210mm×210mm的硅片，适用于投产厚度为160±30～200±30微米的硅片，硅片产能不低于1200片/小时。