9月1日,中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“中微公司”)宣布推出多款全新自主研发的高端微观加工设备,覆盖极高深宽比刻蚀、等离子体增强化学气相沉积、原子层沉积、金属薄膜沉积及碳化硅外延等关键赛道。
图片来源:中微公司
其中,PRISMO PDS8®是中微公司面向碳化硅...  [详内文]
涉及碳化硅等领域,中微公司六款高端设备发布 |
| 作者 KikiWang|发布日期 2026 年 09 月 02 日 14:21 | 分类 企业 , 碳化硅SiC |
