全球首块200mm单晶金刚石问世!

作者 | 发布日期 2026 年 11 月 10 日 17:49 | 分类 化合物半导体

当地时间11月6日,Diamond Foundry对外发布材料领域里程碑成果,成功制备全球首块直径200毫米连续单晶金刚石,标志单晶金刚石材料首次达到半导体行业主流200mm晶圆规格,面向AI芯片散热、先进封装、功率半导体衬底场景落地开发。

图片来源:Diamond Foundry官网

根据公司公告,这块D200mm单晶金刚石为完整连续单晶结构,并非多晶材料,也不是由多块小金刚石拼接而成。对外展示样品为生长完成后的原生状态,尚未经过抛光加工。该成果是团队历经25年持续研发取得的突破,核心依托自研异质外延生长技术,在硅基底上搭建铱与氧化锆稳定夹层模板,诱导金刚石原子按统一晶格有序生长,解决大尺寸单晶金刚石生长的晶格失配难题。这套底层技术体系源自其收购的德国Audiatec团队数十年的技术积累。

金刚石是已知导热性能最优的材料之一,同时具备高绝缘、高机械强度的特性,在AI算力场景的核心价值在于消解芯片热点。当前高算力GPU、HPC芯片的功耗高度集中,局部热点是限制芯片持续跑满频率、缩短器件寿命的关键瓶颈。

Diamond Foundry提出,单晶金刚石衬底可以和IC晶圆实现原子级键合,直接贴合芯片有源层,快速导出局部热量,有望把算力芯片持续可用功率、器件使用寿命提升数倍,同时改善3D封装内部的热管理条件。

从产业路线来看,Diamond Foundry在2023年已经推出100mm单晶金刚石晶圆,本次200mm样品是尺寸放大的关键一步。半导体行业晶圆主流规格为200mm、300mm,实现200mm单晶金刚石,意味着该材料有机会适配现有成熟半导体产线的设备、制程标准。公司在通稿中提及,本次突破打通了大尺寸单晶金刚石的生长可行性,技术路径上已经具备向300mm单晶金刚石迭代的基础。

行业层面,面向AI算力的热管理方案正在分化,传统液冷、均热板方案接近物理上限,金刚石衬底、金刚石薄膜散热是算力上游材料的前沿赛道。但该材料距离商业化落地仍存在较长周期:当前仅为单块样品验证,后续需要攻克良率提升、抛光加工、晶圆键合、可靠性验证、成本控制等一系列环节,量产时间表、客户定点信息目前均未披露。

公告同时提示,该样品证明了工艺可行性,不代表已经形成稳定产线,后续公司将持续推进工艺迭代、良率优化,待条件成熟后启动客户评估与送样。

(集邦化合物半导体整理)

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