2026年2月9日,青禾晶元官网正式对外公布,其与西安电子科技大学联合技术团队在金刚石半导体材料领域取得重大技术突破,成功开发基于常温键合与H-Cut技术的金刚石薄膜高质量转移工艺,为金刚石半导体从实验室走向产业化应用扫清关键障碍。
金刚石被誉为“终极半导体材料”,凭借超高热导率...  [详内文]
青禾晶元联合西电取得金刚石半导体技术重大突破 |
| 作者 KikiWang|发布日期 2026 年 02 月 12 日 16:28 | 分类 半导体产业 |
