业绩创新高,中微公司发布2023年年度报告

作者 | 发布日期 2024 年 03 月 20 日 14:05 | 分类 光电

3月19日,中微公司发布2023年年度报告。

中微公司是一家以中国为基地、面向全球的微观加工高端设备公司,致力于为全球集成电路和LED芯片制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案。

中微公司主要拥有五类设备产品,分别是CCP电容性刻蚀机、ICP电感性刻蚀机、深硅刻蚀机、MOCVD、薄膜沉积设备、VOC设备。

在刻蚀设备业务的带动下,2023年中微公司业绩创历史新高,公司实现营业收入62.64亿元,同比增长32.15%;实现归母净利润17.86亿元,同比增长52.67%;公司总资产约215.26亿元,较报告期初增长7.44%。报告期内,中微公司新签设备订单83.60亿元,同比增长32.30%,其中刻蚀设备新增订单约69.5亿元,同比增长约60.1%。

报告期内,中微公司的刻蚀设备业务实现营收47.03亿元,同比增长49.43%。中微公司表示,其刻蚀设备技术已达到5nm及以下,设备具备了更先进点的工艺水平,设备收到了多家客户的批量订单,市场占有率持续提升。

MOCVD设备营收则达到了4.62亿元,同比下降约33.95%。中微公司表示,公司的MOCVD设备在Mini LED等氮化镓基设备领域市场占有率较大份额,此外公司还在继续开发用于氮化镓、碳化硅等功率器件及Micro LED器件制造的MOCVD设备。报告期内,受终端市场波动影响,2023年MOCVD设备订单同比下降约72.2%。

目前,在LED领域,中微公司的MOCVD设备包括了用于LED蓝光照明的PRISMO A7、用于深紫外LED的PRISMO HiT3、用于MiniLED显示的PRISMO UniMax等产品。其中 PRISMO UniMax 产品自2021年6月正式发布以来,凭借高产量、高波长均匀性、高良率等优点,受到下游客户的广泛认可。
而针对Micro LED应用的MOCVD设备目前开发顺利,实验室初步结果实现了优良的波长均匀性能,并于报告期内交运样机至国内领先客户开展生产验证。

在氮化镓、碳化硅领域,中微公司于2022年推出了用于氮化镓功率器件生产的MOCVD设备PRISMO PD5,已交付至国内外领先客户,并取得了重复订单。而碳化硅功率器件外延生产设备正在开发中,报告期内,中微公司取得较大的技术进展,实现了优良的工艺结果,正与多家领先客户开展商务洽谈,预计2024年第一季度将开展客户端生产验证。

报告期内,中微公司继续加大研发与产能建设与投入,其研发费用提升至12.62亿元,同比增长35.89%。项目建设方面,其位于南昌的约14万平方米的生产和研发基地已于2023年7月投入使用;在上海临港的约18万平方米的生产和研发基地部分生产厂房及成品仓库已经于2023年10月投入使用;上海临港约10万平方米的研发中心暨总部大楼也即将封顶,未来将进一步提升中微公司的综合竞争力。

中微公司表示,公司已形成三个维度扩展未来公司业务的布局规划,将深耕集成电路关键设备领域、扩展在泛半导体关键设备领域应用并探索其他新兴领域的机会。

在集成电路设备领域,公司考虑扩大在刻蚀设备领域的竞争优势,延伸到薄膜、检测等其他关键设备领域;在泛半导体领域设备的应用,公司计划扩展布局显示、MEMS、功率器件等的关键设备;在其他新兴领域的机会,公司拟探索利用独特的设备及工艺技术,考虑从设备制造向器件大规模生产的机会,以及探索更多集成电路及泛半导体设备生产线相关环保设备及医疗健康智能设备等领域的市场机会。

文:集邦化合物半导体

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