“深圳国资”官微消息,近期由市属国企深重投集团与深圳市科技创新局联合打造的国家第三代半导体技术创新中心深圳综合平台(以下简称“国创中心”)在氮化镓/碳化硅集成领域取得突破性进展。
国创中心首次研制了商用8英寸4°倾角4H-SiC衬底上的高质量氮化铝镓/氮化镓异质结构外延。这一成果...  [详内文]
深圳在氮化镓/碳化硅集成领域取得突破性进展! |
作者 KikiWang|发布日期 2025 年 08 月 12 日 13:49 | 分类 氮化镓GaN , 碳化硅SiC |