近日媒体报道，在湖南艾科威半导体装备有限公司（以下简称“艾科威”）里，一台制作半导体材料的碳化硅（SiC）高温激活炉正在装车，准备发往外地某芯片公司。
艾科威研发总监尹昊介绍，碳化硅高温激活炉，通过在高温环境下对碳化硅材料进行表面改性处理，实现晶圆表面石墨层的制备，主要应用于碳化硅高温离子注入后的高温激活退火，刻蚀后的沟槽平滑等工艺，具备在氮气、氢气等气体氛围下的高温退火工艺，温度可达1900℃。
艾科威专注于半导体设备及系统解决方案，提供制作包括碳化硅和晶圆体等半导体材料在内的重要设备。
艾科威拳头产品之一的管式热工设备立式炉，主要适用于8英寸及以下尺寸晶圆的氧化和退火工艺。
据介绍，氧化是将硅片放在氧气或水蒸汽的氛围中进行热处理，在硅片表面形成氧化膜的过程，可作为隔离层、表面钝化层、器件结构的介质层等。退火主要是通入惰性气体进行热处理的过程，其主要作用是消除晶格损伤和缺陷，最高温度可达1200℃。
（集邦化合物半导体整理）
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