源杰科技拟12.51亿元扩产!加码化合物半导体光芯片赛道

作者 | 发布日期 2026 年 02 月 11 日 15:39 | 分类 企业

2月9日,源杰科技发布公告称,公司拟投资建设光电通讯半导体芯片和器件研发生产基地二期项目,总投资金额约12.51亿元,资金来源为自有资金及自筹资金,项目尚需提交公司股东会审议通过后正式推进。

图片来源:源杰半导体公告截图

据悉,该二期项目选址于陕西省西咸新区沣西新城开元路1265号,与公司现有基地地理位置衔接,建设周期为18个月,主要建设内容包括新建光芯片生产线、生产厂房及配套设施,聚焦高速光芯片领域,旨在提升公司高端光芯片订单交付的稳定性与响应速度,满足客户在数据中心建设等领域持续提升的产品需求。

值得关注的是,此次投建的光电通讯芯片二期基地,本质上是源杰半导体对化合物半导体业务的进一步加码与深化。

公开资料显示,源杰半导体成立于2013年,2022年登陆科创板,是我国领先的半导体激光器芯片制造商,核心业务聚焦于磷化铟(InP)、砷化镓(GaAs)等化合物半导体激光器芯片的研发与生产,构建了从外延生长、芯片制造到封装测试的全产业链能力,也是国家级专精特新“小巨人”企业。

化合物半导体与传统硅基半导体相比,具有高频、高速、耐高温、低功耗等突出优势,是光电通讯芯片的核心支撑材料,其中磷化铟、砷化镓更是光通信领域不可或缺的关键材料——磷化铟主要用于制造高速激光器芯片、探测器芯片,是400G/800G光模块、5G基站光模块的核心组件,而砷化镓则广泛应用于中低速光芯片及激光雷达芯片领域。

源杰半导体此次投建的二期基地,将延续其核心技术路线,重点推进基于磷化铟等化合物半导体材料的高速光芯片规模化生产,进一步突破外延生长、干法刻蚀等关键工艺瓶颈,提升产品性能与良率,其自主研发的25G DFB激光器芯片已实现波长偏差±3nm、可靠性达100万小时的优异性能,对标国际巨头水平。

从行业层面来看,近年来,随着数字经济、5G通信、人工智能、云计算等产业的快速发展,数据中心建设加速推进,光模块向高速率、高带宽升级,带动高速光芯片需求持续爆发,而化合物半导体作为高速光芯片的核心载体,市场规模呈现快速增长态势,成为半导体产业升级的核心赛道之一。

(集邦化合物半导体整理)

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