全球新增两座碳化硅晶圆厂,启动/加速投产

作者 | 发布日期 2025 年 11 月 04 日 14:30 | 分类 碳化硅SiC

近日,全球碳化硅(SiC)功率半导体动态频频,国际大厂三菱电机位于日本熊本的8英寸SiC晶圆厂已正式竣工,预示着其试生产即将启动,同时也揭示了面对市场波动的弹性产能策略;与此同时,南亚市场亦迈出历史性一步,SiCSem在印度启动了该国首个端到端SiC制造设施的动工仪式。

01、三菱电机:8英寸碳化硅晶圆厂竣工,正加速投产

近日,三菱电机位于日本熊本县菊池市的8英寸SiC功率半导体制造设施已于2025年10月1日举行竣工典礼,正式宣告工厂主体建设完成。

根据计划,该设施将立即进入准备阶段,并预计于2025年11月启动运营,采用8英寸SiC衬底开始试生产,为实现2027年正式量产奠定基础。

该工厂是三菱电机长期战略的核心体现。该扩产计划于2023年3月宣布,初期投资约1,000亿日圆,旨在应对电动车(EV)市场的强劲需求。工厂拥有六层结构,总建筑面积约4.2万平方米,设计上专注于8英寸SiC晶圆的前端制程,并全面导入自动化系统。

然而,在工厂竣工的同时,公司对产能投放采取了更为谨慎的弹性策略。鉴于近期电动车市场的需求增长速度略低于原先预期,三菱电机总裁UrumaKei在竣工典礼上透露,公司已决定将新设施的部分设备强化计划延后到2031财年及之后。总裁表示,公司将透过审查市场条件和其他因素,决定要安装多少条生产线,这显示三菱电机将根据实际的市场需求,灵活调整产能的爬坡速度和资本支出,以平衡积极扩张与市场风险。

在产能与销售目标方面,三菱电机的目标是到2026财年将SiC产能提升至2022财年的5倍,并设定了到2030财年将功率半导体业务中的SiC销售比例提高到30%以上的远期目标,显示出公司在SiC领域全面超越既有6英寸产线(2010年代后期建立)的决心。

02、SiCSem印度建厂:南亚首座端到端SiC芯片制造设施启动

在亚洲新兴市场中,印度在推动本土半导体制造的进程中迈出了历史性的一步。11月1日,SiCSem公司在印度奥里萨邦(Odisha)隆重启动了该国首个端到端(End-to-End)碳化硅半导体制造设施的动工仪式。

该SiC制造设施总投资额约2067亿卢比,彰显了对本土高科技制造的巨大信心和支持。在产能方面,该设施的目标是实现年处理6万片SiC晶圆的规模,并预计在2027年至2028年期间投入正式运营。

作为一家新兴的印度本土半导体公司,SiCSem的这一举措具有高度的战略意义,将有助于印度减少对外部SiC供应链的依赖,极大地增强该国在电动汽车(EV)及可再生能源系统等核心产业的自主可控能力。

(集邦化合物半导体 竹子 整理)

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