文章分类: 氮化镓GaN

功率半导体大厂谈氮化镓前景

作者 | 发布日期: 2025 年 10 月 16 日 18:27 |
| 分类: 氮化镓GaN
10月13日,瑞萨电子官微发文,介绍了瑞萨及其GaN(氮化镓)技术发展征程,氮化镓应用情况,以及未来氮化镓面临的挑战与机会。 2024年瑞萨电子收购GaN领域的先驱企业Transphorm,进而完成了布局氮化镓的关键一步。此次收购,瑞萨获得了Transphorm的GaN知识产权、...  [详内文]

CGD宣布与格芯合作,扩大ICeGaN® 产能!

作者 | 发布日期: 2025 年 10 月 14 日 17:52 |
| 分类: 氮化镓GaN
10月13日,剑桥氮化镓器件公司(Cambridge GaN Devices, 以下简称“CGD”)宣布,与全球领先的半导体制造商GlobalFoundries(格芯)达成重要制造合作。 此次合作将大幅增强CGD的供应链能力,利用格芯成熟的8英寸晶圆制程,扩大其独有的ICeGaN...  [详内文]

拟募资15.5亿港元,国内氮化镓龙头将扩产

作者 | 发布日期: 2025 年 10 月 11 日 14:13 |
| 分类: 氮化镓GaN
10月10日,英诺赛科发布公告表示,拟募资15.5亿港元,约4.82亿港元用于产能扩充及产品迭代升级。 图片来源:英诺赛科公告截图 英诺赛科在公告中指出,公司与配售代理订立配售协议,配售代理同意作为本公司代理尽力促使不少于六名承配人按照配售协议所载条款并在其条件规限下购20,7...  [详内文]

涉及imec、英诺赛科等,氮化镓新增两起重磅合作!

作者 | 发布日期: 2025 年 10 月 09 日 15:30 |
| 分类: 氮化镓GaN
在半导体技术不断革新的当下,氮化镓凭借其卓越性能成为行业焦点。近期,氮化镓领域动作频频,比利时微电子研究中心(imec)启动12英寸氮化镓项目并公布首批合作伙伴,英诺赛科也携手联合电子与纳芯微,聚焦新能源汽车功率电子领域展开深度合作,这些动态为氮化镓技术的发展与应用带来了新的契机...  [详内文]

氮化镓新品密集来袭,安费诺、氮矽科技、瑞萨电子相继发力

作者 | 发布日期: 2025 年 10 月 09 日 9:22 |
| 分类: 氮化镓GaN
随着第三代半导体技术的快速迭代,氮化镓(GaN)凭借高功率密度、低能耗、耐高温等核心优势,已成为消费电子、新能源、工业控制等领域技术升级的关键支撑。近期,全球多家半导体及能源科技企业集中发力,推出多款基于氮化镓技术的创新产品。 安费诺推出高效氮化镓微型逆变器,开辟商用市场新机遇 ...  [详内文]

英诺赛科亮相PCIM Asia,集中呈现国内氮化镓最新成果

作者 | 发布日期: 2025 年 09 月 28 日 18:48 |
| 分类: 企业 , 氮化镓GaN
9月24日至26日,PCIM Asia展会(上海国际电力元件、可再生能源管理展览会暨研讨会)如火如荼召开,全球氮化镓功率半导体领先企业英诺赛科(Innoscience)呈现了其最新的InnoGaN产品系列与多行业应用方案,吸引众多业内人士驻足交流。 PCIM Asia作为亚太地...  [详内文]

氮化镓产能进一步释放,两家厂商迎重大进展

作者 | 发布日期: 2025 年 09 月 28 日 18:39 |
| 分类: 氮化镓GaN
近期,氮化镓半导体领域发展势头强劲,山东镓数智能科技有限公司与东部高科DB HiTek分别传来重要消息。山东镓数氮化镓单晶衬底项目全面达产,在产能建设与市场拓展方面成果显著;与此同时,东部高科650V GaN HEMT工艺开发进入最终阶段,并计划推出专属氮化镓多项目晶圆项目,同时...  [详内文]

功率半导体大厂将进军氮化镓市场!

作者 | 发布日期: 2025 年 09 月 25 日 13:04 | | 分类: 功率 , 氮化镓GaN
在全球科技加速向清洁能源与智能化转型的浪潮中,功率半导体市场正迎来新一轮技术革新与产业变革。作为行业领军者,东芝电子元件近期动作频频,在碳化硅(SiC)、IGBT等领域持续深耕并取得显著成果后,又将战略目光投向了氮化镓(GaN)这一极具潜力的新兴领域。 东芝电子元件将进军氮化镓市...  [详内文]

烟山科技率先打通8英寸硅基氮化镓MicroLED混合集成工艺

作者 | 发布日期: 2025 年 09 月 19 日 14:14 |
| 分类: 氮化镓GaN
近日,莫干山基金已投项目烟山科技在MicroLED核心制造工艺上取得了重大突破。该公司率先在8英寸硅基氮化镓(GaN-on-Si)平台上完成了混合集成(Hybrid Bonding)工艺的全流程打通,并成功点亮了大尺寸MicroLED面板。 与传统键合集成工艺相比,Hybrid ...  [详内文]

中镓半导体实现6/8英寸GaN衬底制备

作者 | 发布日期: 2025 年 09 月 18 日 14:26 |
| 分类: 企业 , 氮化镓GaN
近日,东莞市中镓半导体科技有限公司(以下简称“中镓半导体”)宣布取得重大技术突破,成功攻克6英寸及8英寸氮化镓(GaN)单晶衬底的制备技术。 图片来源:中镓半导体 这一成果依托于#中镓半导体 自主研发的超大型氢化物气相外延设备(HVPE),不仅填补了国际上HVPE工艺在6英寸及...  [详内文]