近日,九峰山实验室化合物半导体中试工艺平台携手国内本土原子层沉积(ALD)设备企业开展联合技术攻关,顺利完成ALD金属钼工艺重大技术突破,此次技术成果落地也填补了国内相关工艺在8英寸量产平台应用领域的空白。
此次研发攻关过程中,研发团队选用稳定性强、使用效率更高的二氯二氧化钼作为...  [详内文]
九峰山实验室攻克8英寸ALD钼工艺 |
| 作者 KikiWang|发布日期 2026 年 05 月 22 日 17:49 | 分类 化合物半导体 |
